平成26年度（2014年度）
2014年度卒業研究テーマ
下記の内容は旧光メカトロニクス学科で実施された卒業研究です。その中から電子計測メジャー所属教員が指導した卒業研究のタイトル一覧となっています。
波動エレクトロニクス（松本、藤垣、村田）
- 光電気変換型DQPSK信号再生器における信号帯域制限の影響
- 無キャリアBPSK位相変調信号からの光キャリア抽出
- 軟質チューブにおけるガイド波流量測定の精度向上に関する研究
- 大型物体三次元計測用格子投影装置の試作とキャリブレーション手法の提案
- 光信号再生における伝送路分散の影響の検討
- シャドウグラフ法を用いたアクリル欠陥部における超音波伝搬挙動の可視化
- 空間フリースキャニングシステムを用いた合成開口による３次元超音波画像探傷
- スペックル干渉法による大物体変位計測のためのキャリブレーション手法の検討
- サンプリングモアレ法を用いた屋外での微小変位計測における誤差要因の検討
- 光ファイバ中のブリルアン散乱を用いた相関領域分布型センサの研究
- 表面SH波音弾性法を用いた厚肉鋼材の応力評価に関する検討
- 誘導ブリルアン散乱を用いたリング型ファイバレーザの研究
- デシタルホログラフィを用いた時間平均干渉縞による欠陥検出装置の製作
- レーザの注入同期とブリルアン増幅を用いたコヒーレント受信用局部発振光の生成
マイクロ工学（土谷、菊地、幹）
- 微細加工プロセス履歴によるPVDF圧電定数の特性評価
- 導電性高分子アクチュエータを用いた空気中駆動モノモルフアクチュエータの研究
- ウェットエッチングを用いたPVDF微細加工技術の研究
- 形状記憶ポリマーを用いた剛性制御可能なイオン導電性高分子アクチュエータの開発
- イオン導電性高分子薄膜センサの変形速度に対する周波数特性評価
- 誘電エラストマーアクチュエータとばねの直列アクチュエータの動作解析
- ドライエッチングによるPVDF 微細加工技術の開発研究
- PVDF微細加工におけるウェットエッチングの特性評価
- イオン導電性高分子金属接合体を使用したソフトグリッパの開発
- 低コストマイクロニードルの作製プロセス技術の開発研究
- RIEプロセス条件によるPVDFのドライエッチング特性評価
- ロール型誘電エラストマーアクチュエータの作製方法の開発
- ひずみゲージ式圧力センサシートの開発
情報フォトニクス（野村）
- ディジタルホログラフィの合成開口法の違いが被写界深度拡張におよぼす影響
- 低コヒーレンス光源の波長幅を考慮したインラインディジタルホログラフィ位相相関による微粒子計測
- 4ステップ一般化位相シフト法を用いたカラーディジタルホログラフィ
- 光学実験による干渉法と強度輸送方程式法の計測精度の比較
光波テクノロジ（沼田、似内）
- 反復計算位相回復における空間位相変調がもたらすスペックルと光渦
- Parallel Phase-Shifting Technique in Common-Path Interferometry employing Combined Two Ronchi Gratings
- 周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いた位相解析による屈折率測定
- 多光波干渉で発生する光渦アレイの振る舞い
- 取得角度の異なる2つのOCT画像からの屈折率と厚さ分布の同時測定
- タイコグラフィーにおける広領域の位相回復のための走査プローブ光最適条件
- 反復計算位相回復法におけるパイロットパターンを用いた収束判定